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石墨烯、納米管生長爐

科研型擴散氧化爐
科研型擴散氧化爐
型號:KJ-T1300-LZ-10KS
用途:本設備為科研型擴散氧化爐,適用於企業研發、大學及科研院所的科研與教學。可滿足多晶矽、氮化矽、擴散、氧化、退火等工藝。
石墨稀、碳納米管材料CVD設備
石墨稀、碳納米管材料CVD設備
型號:KJ-T1050-CVD-LZ
用途:該設備主要用於石墨稀、納米材料工藝塗層、多晶矽、碳化矽、擴散、氧化、退火等工藝。
1200℃石墨烯生長爐
1200℃石墨烯生長爐
型號:KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S
用途:KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S石墨烯生長爐是一種特殊的CVD係統,是專門為在金屬箔(像銅箔、鋁箔等)上生長薄膜而設計,廣泛應用在新一代能源關於柔性金屬箔電極方麵的研究上,特別適用於碳納米管、碳納米線、石墨烯的生長。
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