網站地圖
產品導航
服務承諾
當前位置:首頁 > 產品中心 > 化學氣相沉積係統(CVD) > 高真空CVD係統

高真空CVD係統

三溫區CVD設備
三溫區CVD設備
型號:KJ-OTF-1700-F5
用途:此款三溫區CVD生長係統適用於CVD工藝,如碳化矽鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
流化床CVD係統
流化床CVD係統
型號:KJ-CVD-DZ
用途:主要用於物料及其複合碳化物等超高熔點塗層化學氣相沉積製備工藝的研究。
大口徑CVD奶茶视频有容乃大
大口徑CVD奶茶视频有容乃大
型號:KJ-T1200-CVD
用途:包括大範圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如碳化矽鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。也可用於:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料製備、電池材料製備等多研究領域。
四路高溫真空CVD設備
四路高溫真空CVD設備
型號:KJ-T1200-S60K-4C
用途:KJ-T1200-S60K-4C型四路高溫真空CVD設備是一種特殊的高真空CVD係統,是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品
1200℃高溫真空CVD設備
1200℃高溫真空CVD設備
型號:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S
用途:1200℃高溫真空CVD設備廣泛用於各種反應溫度在1200℃左右的CVD實驗,也可用於:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料製備、電池材料製備等多研究領域。
在線客服 聯係方式 二維碼

服務熱線

177-3714-9370

掃一掃,關注奶茶视频污

手机版  WAP版