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低真空CVD係統

3通道CVD設備
3通道CVD設備
型號:KJ-T1600 -3M
用途:KJ-T1600 CVD 是一種奶茶视频有容乃大,具有 80mm 直徑的氧化鋁管和三通道質量流量計氣體流動係統。 它可以混合1-3種氣體用於CVD或擴散。
雙爐體CVD設備
雙爐體CVD設備
型號:KJ-T1200-W2
用途:該雙爐體CVD係統為定製款,適用於CVD工藝,如碳化矽鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
1200℃雙管滑道式CVD係統
1200℃雙管滑道式CVD係統
型號:KJ-1200T
用途:專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關於柔性金屬箔電極方麵的研究。
CVD係統
CVD係統
型號:KJ-T1600-CVD
用途:廣泛應用於半導體工業中,包括大範圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料等的鍍膜,該設備可在目標材料表麵形成密集的HfCl4塗層.
小型CVD奶茶视频有容乃大
小型CVD奶茶视频有容乃大
型號:KJ-T1200-S50-3Z
用途:適用於高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等試驗。
箱式化學氣相沉積係統
箱式化學氣相沉積係統
型號:KJ-M1200(1400/1700)-Z
用途:應用於大範圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如碳化矽鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。廣泛用於高等院校、科研單位、工礦企業進行:高溫實驗、材料燒結、成分分析,質量檢測等熱處理工作。
1200度三溫區CVD奶茶视频有容乃大
1200度三溫區CVD奶茶视频有容乃大
型號:KJ-1200T-S60LK3-3FZ
用途:該係統廣泛用於各種反應溫度在1100℃左右的CVD實驗,也可用於:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料製備、電池材料製備等多研究領域。
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